Ηλεκτρονική αγνότητα συν τα αέρια C4F6 ειδικότητας για TFT - κατασκευή LCD

Η ηλεκτρονική ειδικότητα δηλητηριάζει με αέρια C4F6 που χρησιμοποιούνται κατά τη διάρκεια της επεξεργασίας ημιαγωγών και την κατασκευή των TFT-LCD

Περιγραφή:

C4F6 είναι νέο ένα φιλικό προς το περιβάλλον, υψηλής απόδοσης, χαράζει τη χημεία για διηλεκτρικό του χαράζει το ΔΙΕΘΝΈΣ ΕΙΔΗΣΕΟΓΡΑΦΙΚΌ ΠΡΑΚΤΟΡΕΊΟ (TM) Centura (Ρ) και διηλεκτρικός χαράξτε τα έξοχα συστήματα ε (TM) Centura. Το αέριο C4F6 μπορεί παρέχει ότι υψηλότερος χαράξτε τα ποσοστά, ο καλύτερος έλεγχος σχεδιαγράμματος και η υψηλότερη επιλεκτικότητα photoresist κρίσιμο σε διηλεκτρικό χαράζουν τις εφαρμογές.

Το αέριο C4F6 βελτιώνει διηλεκτρικό χαράζει τα αποτελέσματα διαδικασίας στις περιοχές κλειδί όπως το διπλό damascene χαλκού, η μόνος-ευθυγραμμισμένη επαφή και ο υψηλός λόγος διάστασης επαφή χαράζουν τις εφαρμογές, συμπεριλαμβανομένων των χαμηλών υλικών Κ. Εκθέτει επίσης τα σημαντικά περιβαλλοντικά οφέλη πέρα από το ρεύμα χαράζει τις χημείες.

Η βιομηχανία ημιαγωγών έχει ερευνήσει τις νέες χημείες αερίου σε μια προσπάθεια να μειωθούν οι σφαιρικές εκπομπές θέρμανσης. Εκτός από τη βελτίωση χαράξτε την απόδοση διαδικασίας, χαμηλές σφαιρικές εκπομπές θέρμανσης χαρακτηριστικών γνωρισμάτων αερίου C4F6 και μηά δυνατότητα μείωσης όζοντος.

Εφαρμογές:

1. Γ: Η αναλογία Φ στο μόριο Γ₄ Φ₆ είναι αρκετά υψηλή να ελέγξει το ποσό πολυμερούς σώματος στην επιφάνεια αιθουσών και την επιφάνεια γκοφρετών όσον αφορά τους ριζοσπάστες χαρακτικής Φ επιτυγχάνοντας έτσι τα ανώτερα αποτελέσματα πέρα από άλλα αέρια για να παραγάγει το κάθετο σχεδιάγραμμα. Σημαντικότερα, τα εγγενή χαρακτηριστικά του επιτρέπουν την υψηλή επιλεκτικότητα στο υπόστρωμα ή photoresist και το ευρύτερο παράθυρο διαδικασίας έναντι του Γ₄ Φ₈.

2. Αυτή η συμπεριφορά είναι ιδιαίτερα ευεργετική να καλύψει την ανάγκη για υπο- 0,25 απαιτήσεις μ. Το AR χρησιμοποιείται ως αέριο μεταφορέων αλλά η επιλεκτικότητα νιτριδίων οδηγεί μια μειωμένος λειτουργία για το AR.